99.95%高純鈮靶材,金屬鈮靶,

? ? ? 其靶材材料廣泛應(yīng)用于背面金屬化系統(tǒng)、汽車工業(yè)、高溫材料和生物醫(yī)學(xué)中。“半導(dǎo)體器件用鎳鉑靶材的制備關(guān)鍵技術(shù)及產(chǎn)業(yè)化”取得重大打破，建立了生產(chǎn)線并取得良好經(jīng)濟(jì)效益，鎳鉑靶材替代了***產(chǎn)品并遠(yuǎn)銷海外。國(guó)內(nèi)靶材等半導(dǎo)體材料的帶領(lǐng)者企業(yè)，實(shí)現(xiàn)了高純金屬、靶材一體化運(yùn)營(yíng)，在高純金屬、銅靶材、鈷靶材等產(chǎn)品上實(shí)現(xiàn)了技術(shù)打破。并成功進(jìn)入到國(guó)外集成電路企業(yè)的供應(yīng)鏈。用高能粒子轟擊固體表面時(shí)能使固體表面的

2024-07-17 面議/套

高純硅靶,硅靶材源頭廠家,硅

鉬靶材可分為很多種例如：寬幅鉬靶材，平面鉬靶，旋轉(zhuǎn)鉬靶材，鉬靶材，鉬合金靶等等，我們已經(jīng)了解了寬幅鉬靶材也來(lái)了解下旋轉(zhuǎn)鉬靶材的情況及用途，后再了解下鉬靶材的用途吧。1、旋轉(zhuǎn)靶材是磁控的靶材。靶材做成圓筒型的，里面裝有靜止不動(dòng)的磁體，以慢速轉(zhuǎn)動(dòng)。2、濺射靶材用于磁控濺射鍍膜，濺射鍍膜是種新型的物理氣相鍍膜(PVD)方式。 鋁靶、銅靶用于導(dǎo)電層薄膜。在半導(dǎo)體芯片制造的金屬化工藝過(guò)程中，氧化鎢薄膜是一種

2024-07-17 面議/套

氧化鈮靶材,NbOx,光學(xué)用氧化

真空鍍膜機(jī)的發(fā)展相當(dāng)迅速，隨著生產(chǎn)率的提高，生產(chǎn)費(fèi)用大大降低，已經(jīng)為真空鍍膜產(chǎn)品的普遍使用鋪平了道路。以卷繞式真空鍍膜機(jī)為例，剛開(kāi)發(fā)時(shí)可鍍的薄膜基材寬度是150mm，目前已達(dá)2253mm�；�材卷筒的卷徑是1000mm，卷繞速度750m/min。 自動(dòng)裝卸的半連續(xù)卷繞式真空鍍膜機(jī)鍍膜時(shí)間占整個(gè)周期的75%，輔助操作時(shí)間只占25%。隨著計(jì)測(cè)技術(shù)、控制技術(shù)的進(jìn)步和電子計(jì)算機(jī)的應(yīng)用，卷繞式真空鍍膜機(jī)正向著

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鈦旋轉(zhuǎn)靶材 鋁旋轉(zhuǎn)靶材 銅旋

磁控濺射靶是真空磁控濺射鍍膜的核心部件，它的重要作用主要表現(xiàn)在以下兩個(gè)方面(1)對(duì)于大面積表面的鍍膜，磁控濺射靶影響著膜層的均勻性與重復(fù)性；(2)當(dāng)膜層材料為時(shí)。定著靶材(形成薄膜的材料)，主要產(chǎn)品為高純金屬靶材、蒸鍍材料、口腔正畸器材、用介入支架和貨品合金、化合物等。非常高純鋁濺射靶基材為非常高純鋁靶材的金屬原材料。電子濺射靶材可以分為半導(dǎo)體靶材、鍍膜玻璃靶材、太陽(yáng)能光伏靶材、裝飾鍍靶材等。材質(zhì)

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氧化鈮靶材,光學(xué)鍍膜靶材,鈮

? ?氧化鈮靶是在平面顯示主要提供的靶材。近年來(lái)，國(guó)內(nèi)的靶材制造商的設(shè)備和技術(shù)都得到較大的升級(jí)，部分靶材供應(yīng)商接近國(guó)外進(jìn)口靶材的品質(zhì)。磁控濺射技術(shù)是目前重要的工業(yè)化大面積真空鍍膜技術(shù)。它相比其他濺射鍍膜，具有高速、低溫、低損傷等優(yōu)點(diǎn)。 ? ? ?市面上的氧化鈮靶材有平面氧化鈮靶和旋轉(zhuǎn)氧化鈮靶，其中旋轉(zhuǎn)氧化鈮靶因?yàn)槔�用率高，換靶周期長(zhǎng)而受到追捧。? ? ? ?以下介紹磁控濺射靶材里面重要的一款：旋轉(zhuǎn)

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銀銅合金靶材,銅銀合金靶材,

? ? ? 靶材****有望獲得重點(diǎn)支持。在半導(dǎo)體材料行業(yè)中，靶材行業(yè)屬于高等靶材仍在日美等國(guó)把控，但是國(guó)產(chǎn)替代已經(jīng)嶄露頭角，呈現(xiàn)定點(diǎn)打破局面，正是需要社會(huì)資金大力投入奮力追趕之關(guān)鍵時(shí)刻。按照半導(dǎo)體材料占比產(chǎn)業(yè)9%，靶材占比材料3%比例測(cè)算，靶材行業(yè)有望獲得超過(guò)30億元投資支持，直接利好****公司。隨著FPD靶材國(guó)產(chǎn)化的發(fā)展以及加速國(guó)產(chǎn)化靶材的成長(zhǎng)，免稅政策有必要取消，帶背板的濺射靶材組件的**

2024-07-17 面議/套

高純銀靶材,4N銀靶,99.99銀

隨著人臉識(shí)別技術(shù)的愈發(fā)成熟，紅外手機(jī)人臉識(shí)別開(kāi)始大量普及，成為當(dāng)前市場(chǎng)的重要發(fā)展趨勢(shì)，而硅靶材作為手機(jī)玻璃蓋板的關(guān)鍵鍍膜材料，硅靶材作為應(yīng)用于手機(jī)玻璃蓋板的重要靶材產(chǎn)品，獲得多家手機(jī)玻璃蓋板生產(chǎn)客戶的認(rèn)可。光學(xué)器件應(yīng)用范圍非常廣泛，主要包括智能手機(jī)、車載鏡頭、安防監(jiān)控設(shè)備、數(shù)碼相機(jī)、光碟機(jī)、投影機(jī)等，的應(yīng)用產(chǎn)品包括航空航天監(jiān)測(cè)鏡頭、生物識(shí)別設(shè)備、生命科學(xué)中DNA測(cè)序等研究設(shè)備、檢查儀器鏡頭、半導(dǎo)體

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鋅鋁合金靶材 鋅合金靶材 鋁

? ? ? 靶材，特別是高純度濺射靶材應(yīng)用于電子元器件制造的物理-氣相沉積工藝（PVD）、太陽(yáng)能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術(shù)，也是PVD的一種。它通過(guò)在PVD設(shè)備中用離子對(duì)目標(biāo)物進(jìn)行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料。稱為濺射靶材。IGZO，氧化銦錫，氧化鋅鋁，AZO，ITO

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廣東氧化鈮靶材,Nb2O5靶材,

? ? ? 電弧鍍膜技術(shù) (Cathodic Arc Coating) 可在大量民生用五金件上鍍上不同的顏色, 做為裝飾用途. 與一般表面處理用的電鍍, 烤漆等相比, 有高硬度, 高亮度, 抗蝕舒緩反應(yīng), 不脫落, 不掉色等不錯(cuò)特色. 目前巿面上常見(jiàn)的衛(wèi)浴五金 (蓮蓬頭, 水****, ..), 建筑五金 (門(mén)鎖, 門(mén)把, 電梯內(nèi)板 ..), 汽車五金 (后視鏡, ..), 機(jī)殼 (手機(jī), 計(jì)算機(jī)

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高密度AZO靶材 AZO靶材采購(gòu)

一般會(huì)由金膜或銀膜替代。光碟的膜層也是多層組成的，它在染料層上鍍上30nm厚的鐵鈷合金記錄層，里面混有非晶態(tài)稀土過(guò)渡元素，再鍍上20到100nm厚的氮化硅介質(zhì)層，后鍍上鋁膜反射層。這些需要落得磁性能，能夠記錄數(shù)據(jù)的電子產(chǎn)品，要實(shí)現(xiàn)這些功能，還是要靠各種不同物質(zhì)所濺射而成的薄膜，靠其成膜后顯示出來(lái)的晶體狀態(tài)排序來(lái)實(shí)現(xiàn)。n量：66什么是磁控濺射鍍膜靶材？磁控濺射鍍膜是一種新型的物相鍍膜方式,就是用電子

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