尤特靶材,廣東靶材,廣州靶材

真空噴涂硅靶材性能介紹及其優(yōu)點(diǎn) ? ? ? 尤特新材料供應(yīng)各種靶材，噴涂法是利用高壓氣體（N2、H2 、混合氣體或空氣）攜帶粉末顆粒經(jīng)縮放管產(chǎn)生超音速雙相流，在完全固態(tài)下撞擊基體，通過(guò)較大的塑性流動(dòng)變形沉積于綁定背板表面而形成涂層，涂層逐層增厚，獲得陶瓷靶材。由基本的噴涂法又衍生出等離子體噴涂、電弧噴涂、超音速火焰噴涂、冷噴涂等噴涂成型技術(shù)。使用氧化鈮粉體和少量金屬Nb，用等離子體噴涂實(shí)現(xiàn)了工業(yè)化

2024-08-14 面議/公斤

Nb2O5靶材,五氧化二鈮靶材,

? ? ? 旋轉(zhuǎn)靶材相對(duì)于平面靶材具有很多的優(yōu)點(diǎn)，I)利用率高(70%以上)。甚至可以達(dá)到90%;2)濺射速度快，為平面靶的2-3倍；3)有效地減少打弧和表面掉渣，工藝穩(wěn)定性好坐寸ο對(duì)于旋轉(zhuǎn)鍍膜靶材，要求旋轉(zhuǎn)靶`材為單根整體，或分段焊接在同一襯管上。以目前技術(shù)條件，旋轉(zhuǎn)靶材的制備方法主要包括熱等靜壓法、熱壓燒結(jié)法和澆鑄法，以上工藝各有優(yōu)缺點(diǎn)，但是對(duì)不同尺寸的靈活控制難以滿(mǎn)足，尤其是熱壓燒結(jié)法只能生

2024-08-14 面議/套

氧化鋁靶材,氧化鋁管靶材,三

隨著人臉識(shí)別技術(shù)的愈發(fā)成熟，紅外手機(jī)人臉識(shí)別開(kāi)始大量普及，成為當(dāng)前市場(chǎng)的重要發(fā)展趨勢(shì)，而硅靶材作為手機(jī)玻璃蓋板的關(guān)鍵鍍膜材料，硅靶材作為應(yīng)用于手機(jī)玻璃蓋板的重要靶材產(chǎn)品，獲得多家手機(jī)玻璃蓋板生產(chǎn)客戶(hù)的認(rèn)可。光學(xué)器件應(yīng)用范圍非常廣泛，主要包括智能手機(jī)、車(chē)載鏡頭、安防監(jiān)控設(shè)備、數(shù)碼相機(jī)、光碟機(jī)、投影機(jī)等應(yīng)用產(chǎn)品包括航空航天監(jiān)測(cè)鏡頭、生物識(shí)別設(shè)備、生命科學(xué)中DNA測(cè)序等研究設(shè)備、檢查儀器鏡頭、半導(dǎo)體檢測(cè)

2024-08-14 面議/套

金屬鈮靶材,噴涂鈮管靶,綁定

芯片行業(yè)擁有一條超長(zhǎng)的產(chǎn)業(yè)鏈，其整體可分為設(shè)計(jì)、制造、封裝、測(cè)試四大環(huán)節(jié)。除了在設(shè)計(jì)領(lǐng)域。日本是主要的半導(dǎo)體材料生產(chǎn)國(guó)，并在半導(dǎo)體材料里長(zhǎng)期保持優(yōu)勢(shì)，體芯片需要19種左右的必須的材料，缺一不可，且大多數(shù)材料具備高的技術(shù)壁壘。薄膜復(fù)晶）、焊線(xiàn)、封裝材料等14種重要材料方面均占有50%以上的份額。根據(jù)中國(guó)濺射靶材行業(yè)市場(chǎng)數(shù)據(jù)顯示：靶材在半導(dǎo)體材料中占比約為2.5-3%。靶材是濺射薄膜制備的源頭材料，又

2024-08-14 面議/公斤

綁定硅靶,硅靶綁定,多晶硅靶

? ? ? 目前芯片生產(chǎn)所使用的主流導(dǎo)體互連工藝中同時(shí)存在鋁和銅兩種導(dǎo)線(xiàn)工藝，一般來(lái)說(shuō)110nm晶圓技術(shù)節(jié)點(diǎn)以上使用鋁導(dǎo)線(xiàn)，110nm晶圓技術(shù)節(jié)點(diǎn)下使用銅導(dǎo)線(xiàn)（應(yīng)用在更小的納米制程中）。鈦是較為為常用的阻擋層薄膜材料之一，主要是半導(dǎo)體領(lǐng)域，對(duì)應(yīng)的事導(dǎo)電層薄膜是鋁；鉭在高等的超大規(guī)模集成電路芯片中是阻擋層薄膜材料之一（相應(yīng)的導(dǎo)電層薄膜為銅）；鎢鈦靶：半導(dǎo)體芯片門(mén)電路接觸層和阻擋層；鈦材料作為鋁導(dǎo)線(xiàn)的

2024-08-14 面議/套

高純鋯靶,高純鋯靶,鋯靶材源

? ? ? 目前大部分國(guó)家高等靶材市場(chǎng)主要分布于韓國(guó)、、中國(guó)、日本，中國(guó)有超過(guò)20家靶材生產(chǎn)企業(yè)，依靠國(guó)內(nèi)的巨大市場(chǎng)潛力和利好的產(chǎn)業(yè)政策，以及產(chǎn)品價(jià)格優(yōu)勢(shì)，國(guó)內(nèi)的靶材制造商已經(jīng)在國(guó)內(nèi)市場(chǎng)占有一定的市場(chǎng)份額，并逐步在個(gè)別細(xì)分領(lǐng)域搶占了部分國(guó)際大廠(chǎng)的市場(chǎng)空間。UVTM擁有多年開(kāi)發(fā)和工作經(jīng)驗(yàn)的納米材料，并擁有冷噴涂技術(shù)生產(chǎn)金屬合金靶材，其制備的靶材Sn和O含量均略低于國(guó)產(chǎn)靶材。UVTM還是靶材綁定方面的

2024-08-14 面議/套

鉭靶材,鉭靶材用途,鉭靶材綁

? ? ? 未來(lái)HIT和薄膜電池增長(zhǎng)潛力很大。由于HJT電池的工藝要求較高，因此ITO濺射靶材的比例和純度非常重要。什么是高純?yōu)R射靶材？就是利用各種高純單質(zhì)貨品及新型化合物制得的功能薄膜為（簡(jiǎn)單理解就是純度更高），主要用于對(duì)材料純度、穩(wěn)定性要求更高的領(lǐng)域，像集成電路、平板顯示器、太陽(yáng)能電池、記錄媒體、智能玻璃等行業(yè)。在濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域中，半導(dǎo)體芯片對(duì)濺射靶材的要求是比較高的，要求靶材純度很高，一般

2024-08-14 面議/套

低阻硅靶材,低阻硅管靶,高純

? ? ? 離子束濺射又稱(chēng)離子束沉積，是在離子束技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的新的成膜技術(shù)，特點(diǎn)在高真空下，利用離子束濺射鍍膜，是非等離子體狀態(tài)下的成膜過(guò)程。靶接地電位也可，丕可以進(jìn)行反應(yīng)離子束濺射。雖然這種鍍膜技術(shù)所設(shè)計(jì)到現(xiàn)象比較復(fù)雜，但通過(guò)核實(shí)的選擇靶材及例子能量、種類(lèi)等，可以比較容易地制取各種不同的金屬、氧化物、氮化物及其他化合物等薄膜，特別適合制作多組元金屬氧化物薄膜。目前這一技術(shù)已在磁性材料、超導(dǎo)

2024-08-14 面議/套

高純石墨靶材3N-6N定制,石墨

? 20 世紀(jì)90 年代以來(lái)靶材已蓬勃發(fā)展成為一個(gè)專(zhuān)業(yè)化產(chǎn)業(yè)，中國(guó)及亞太地區(qū)靶材的需求占有世界70%以上的市場(chǎng)份額。大量不同的沉積技術(shù)用來(lái)沉積生長(zhǎng)各種薄膜 ，而靶材是制作薄膜的關(guān)鍵，品質(zhì)的好壞對(duì)薄膜的意義重大。目前高端品質(zhì)靶材主要由:日本、德國(guó)和美國(guó)生產(chǎn)，我國(guó)靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚，在產(chǎn)品質(zhì)量與精細(xì)標(biāo)準(zhǔn)上與國(guó)外有不少的差距，國(guó)內(nèi)也有許多大學(xué)及研究機(jī)構(gòu)對(duì)靶材積極投入了大量鉆研與開(kāi)發(fā)，經(jīng)過(guò)這幾年的發(fā)展也涌現(xiàn)

2024-08-14 面議/套

高純碳靶材,高純石墨靶,石墨

? ? 磁控濺射靶材廣泛應(yīng)用于用于建筑/汽車(chē)玻璃工業(yè)、薄膜太陽(yáng)能工業(yè)、平面顯示工業(yè)、裝飾/功能鍍膜工業(yè)。隨著國(guó)內(nèi)靶材行業(yè)研發(fā)的投入和發(fā)展，國(guó)內(nèi)已有靶材供應(yīng)商、制造商的生產(chǎn)出來(lái)的靶材達(dá)到了進(jìn)口的水平。在廣州，尤特新材料成為全球全球較好個(gè)研制最長(zhǎng)、最厚旋轉(zhuǎn)靶材的制造商，隨著研發(fā)的持續(xù)投入，國(guó)內(nèi)靶材行業(yè)的未來(lái)值得期待。 ? ? 磁控濺射是一種物理氣相沉積的。濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料

2024-08-14 面議/套