旋轉(zhuǎn)氧化鈮靶(NbOxSputteringTarget)主要用于光學(xué)玻璃、平面顯示行業(yè)、建筑玻璃鍍膜行業(yè)、薄膜光伏太陽能電池電較膜系等,可生產(chǎn)狗骨型,或按客戶要求定制靶材。在半導(dǎo)體材料行業(yè)中,國產(chǎn)靶材替代國外靶材已經(jīng)嶄露頭角,呈現(xiàn)定點打破局面,正是需要社會資金大力投入奮力追趕之關(guān)鍵時刻。價格也昂貴,這方面的要求明顯高于平面顯示器、太陽能電池等其他應(yīng)用領(lǐng)域。在硅片的正面和背面制造非常精細(xì)的電路,將光
2024-08-27 面議/套大部分國家應(yīng)用于筆記型計算機(jī)及平板計算機(jī)的觸控面板模塊產(chǎn)值估計將達(dá)到57億美元,年增長率將超30%。觸控面板的產(chǎn)業(yè)鏈很長,主要包括AMOLED、玻璃基板、玻璃硬化、薄膜基材、驅(qū)動IC、ITO靶材、ITO膜、玻璃傳感器、薄膜傳感器、玻璃模組、薄膜模組等子行業(yè)。濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展,較大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。 半導(dǎo)體芯片行業(yè)用的金屬濺射靶材,主要種類包括:銅、鉭、鋁、鈦、鈷和鎢
2024-08-27 面議/套鋁釹靶材主要是用于平面顯示器、觸摸屏的玻璃基板電極層的鍍膜。目前主要是 用真空熔煉和熱壓燒結(jié)方法研發(fā)和生產(chǎn)小尺寸平面靶,大尺寸靶是通過小尺寸拼接形成。 由于不是一體化(需要拼接)容易產(chǎn)生電弧放電,因此成膜質(zhì)量差,難以真實應(yīng)用到高質(zhì)量 的顯示屏、觸摸屏上。盡管,人們已經(jīng)采用真空熔煉生產(chǎn)空心鋁釹靶靶管,并通過銦焊綁定 到不銹鋼背管上生產(chǎn)鋁釹旋轉(zhuǎn)靶材。由于銦焊料昂貴(占整個靶材成本50% )導(dǎo)致鋁釹 旋
2024-08-27 0濺射靶材主要應(yīng)用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。其中,在濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域中,半導(dǎo)體芯片對濺射靶材的金屬材料純度、內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等方面都設(shè)定了極其苛刻的標(biāo)準(zhǔn)。高純靶材主要用于對材料純度、穩(wěn)定性要求更高的領(lǐng)域,像集成電路、平板顯示器、太陽能電池、記錄媒體、智能玻璃等行業(yè)。在濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域中,半導(dǎo)體芯片對濺射靶材的要求是比較高的,要求靶材純度很高,一般在5N(99.999%)以上。隨著電子
2024-08-27 面議/套? 鈦鋁合金靶材主要用于五金裝飾的耐磨、耐腐蝕硬膜,LOW-E鍍膜玻璃,半導(dǎo)體電子加工尺寸:長度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,對于貨品靶材,若剩余下的高純殘靶若以普通廢料進(jìn)行處理,將會是對稀貴材料的較大浪費;同時,靶材從原材料到加工成成品,成材率一般只有40%-80%,大量的余料和殘屑需要更新循環(huán)利用。對于貨品靶材,由于材料價格昂貴,迫切需要對加工過程的余料殘屑的提純再利用及對殘
2024-08-27 面議/條靶材如何應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)?半導(dǎo)體芯片行業(yè)用的金屬靶材,主要種類包括:鉭、銅、鉭、鋁、鈦、鈷和鎢等高純靶材,以及鎳鉑、鎢鈦等合金類的靶材。濺射靶材種類繁多,就ITO導(dǎo)電玻璃中使用硅靶.鋁靶.鈮靶等三種以上。濺射靶材根據(jù)材料可分為金屬材料(純金屬鋁/鈦/銅/鉭等)、合金材料(鎳鉻/鎳鈷合金等)、無機(jī)非金屬(陶瓷化合物:氧化物/硅化物/碳化物等)、濺射靶材種類繁多,就ITO導(dǎo)電玻璃中使用硅靶.鋁靶.鈮靶
2024-08-27 面議/套旋轉(zhuǎn)鈮靶 Rotatable Nb target。應(yīng)用:廣泛用于光學(xué)玻璃,觸摸屏之AR膜系,Low-E玻璃膜系,微電子靶材這塊,中國的微電子靶材從零開始,能發(fā)展到目前的水平,應(yīng)該說成果是非常顯著的。光學(xué)器件需依靠光學(xué)鍍膜形成一層或多層的介電質(zhì)膜和金屬膜,通過二者組成的膜系來改變光波傳導(dǎo)的特性。包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變,主要用到硅、鈮、二氧化硅、鉭等靶材。光學(xué)器件應(yīng)用范圍非常廣
2024-08-27 面議/條? ? ? 大部分國家靶材市場主要由日美公司所掌控,市場集中度較高。日礦金屬是大部分國家的靶材供應(yīng)商,靶材銷售額約占大部分國家市場的30%,霍尼韋爾在并購JohnsonMattey、整合高純鋁、鈦等原材料生產(chǎn)廠后,占到大部分國家市約20%的份額,此外,東曹和普萊克斯分別占20%和10%。對靶材用量較大的行業(yè)主要有半導(dǎo)體集成電路、平板顯示器、太陽能電池、磁記錄介質(zhì)、光學(xué)器件等(這些就是按應(yīng)用的)。其
2024-08-27 面議/套半導(dǎo)體、面板、PCB相關(guān)行業(yè)發(fā)展脈絡(luò)分析電子行業(yè)是發(fā)展新經(jīng)濟(jì)的基石。鍺和硅是常用的元素半導(dǎo)體;化合物半導(dǎo)體包括第Ⅲ和第Ⅴ族化合物、第Ⅱ和第Ⅵ族化合物(硫化鎘、硫化鋅等)、氧化物(錳、鉻、鐵、銅的氧化物),一類是不改變材料的化學(xué)組成進(jìn)行提純,在朝產(chǎn)業(yè)集群化的方向發(fā)展。半導(dǎo)體行業(yè)經(jīng)常發(fā)生并購整合活動,為客戶提供滿足無論是在工業(yè)、汽車、個人電子或其他領(lǐng)域。 鉬靶材可分為很多種例如:寬幅鉬靶材,平面鉬靶,
2024-08-27 面議/套? ? ? 雙銀可鋼的Low-E玻璃用了你們的靶材達(dá)到了效果。Low-E玻璃表面的鍍膜層具有對可見光高透過及對紅外線高反射的特性,具有不錯的建筑節(jié)能效果和良好的透光性。科研人員發(fā)現(xiàn),摻雜劑在給—受體異質(zhì)結(jié)處的分布是實現(xiàn)器件外量子效率提升的關(guān)鍵。農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系太陽能電池的光生電荷過程包括光子吸收、激子解離、電荷傳輸與電荷收集四個基本步驟。ITO靶材是主要由氧化銦(In2O3)和氧化錫(SnO2)納米金
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