? ? 低電壓濺射制備ITO薄膜由于ITO薄膜本身含有氧元素,磁控濺射制備ITO薄膜的過(guò)程中,會(huì)產(chǎn)生大量的氧負(fù)離子,氧負(fù)離子在電場(chǎng)的作用下,以一定的粒子能量會(huì)轟擊到所沉積的ITO薄膜表面,使ITO薄膜的結(jié)晶結(jié)構(gòu)和晶體狀態(tài)造成結(jié)構(gòu)缺陷。濺射的電壓越大,氧負(fù)離子轟擊膜層表面的能量也越大。為了有效地降低磁控濺射的電壓,以達(dá)到降低ITO薄膜電阻率的目的,可以采用一套特殊的濺射陰極結(jié)構(gòu)和濺射直流電源,同時(shí)將
2024-07-19 面議/套? ? ? 濺射靶材,中國(guó)產(chǎn)業(yè)調(diào)研網(wǎng)發(fā)布的年中國(guó)靶材行業(yè)發(fā)展研究分析與市場(chǎng)前景預(yù)測(cè)報(bào)告認(rèn)為靶材是膜的濺射源。簡(jiǎn)單說(shuō)的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料,用于高能激光****中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長(zhǎng)的激光與不同的靶材相互作用時(shí),效應(yīng)。蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。光碟的膜層也是多層組成的,它在染料層上鍍上30nm厚的鐵鈷合金記錄層,里面混有非晶態(tài)稀土過(guò)渡元素,再鍍上20
2024-07-19 面議/套? ? ? 中興制裁與華為都給我們敲響警鐘,芯片等核心技術(shù)產(chǎn)業(yè)亟需發(fā)展,國(guó)產(chǎn)替代刻不容緩。作為半導(dǎo)體材料中的重要一環(huán)—濺射靶材同樣如此,國(guó)產(chǎn)化是必然之路。真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作,真空對(duì)環(huán)境的要求,一般包括真空設(shè)備對(duì)所處實(shí)驗(yàn)室(或車間)的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求,和對(duì)處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個(gè)方面。這兩個(gè)方面是有密切的。周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用;而真空
2024-07-19 面議/套? ? ? 濺射鍍膜是制備薄膜的主要技術(shù)之一,綜合優(yōu)勢(shì)顯著。濺射薄膜制備的源頭材料,又稱濺射靶材。PVD鍍膜目前主要有三種形式,分別是濺射鍍膜、蒸發(fā)鍍膜以及離子鍍膜。綜合而言,蒸鍍薄膜的密度較差,只能達(dá)到理論密度的95%,鍍膜的附著力也較差,但是蒸鍍的鍍膜速率較快。離子鍍不但密度較高、晶粒較小,而且鍍膜與基板的附著力也是三種鍍膜中較大的,只是離子鍍膜較大的缺點(diǎn)是基板必需是導(dǎo)電材料,并且鍍膜時(shí)基板的
2024-07-19 面議/套自20世紀(jì)80年代,以集成電路、信息存儲(chǔ)、液晶顯示器、激光存儲(chǔ)器、電子控制器為主的電子與信息產(chǎn)業(yè)開(kāi)始進(jìn)入高速發(fā)展時(shí)期,進(jìn)入工業(yè)化規(guī)模生產(chǎn)應(yīng)用領(lǐng)域。近10年來(lái),濺射技術(shù)更是取得了突飛猛進(jìn)的發(fā)展。相比PVD另一大工藝真空鍍膜,厚可控制,可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜,合力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),已成為制備薄膜材料的主要技術(shù)。電子器件靶材的原材料有鎳鉻合金、鉻硅合金等,薄膜電容。靶材的方法很多。大體上,按應(yīng)用
2024-07-19 面議/套? ? ? 日本能源、東芝和三井在大部分國(guó)家ITO靶材市場(chǎng)擁有80%以上的份額。平板顯示器件都要用到各種類型的薄膜,沒(méi)有薄膜技術(shù)就沒(méi)有平板顯示器件。平板顯示器多由金屬電極、透明導(dǎo)電極、絕緣層、發(fā)光層組成,為了保證大面積膜層的均勻性,提高生產(chǎn)率和降低成本。平板顯示器多由金屬電極、透明導(dǎo)電極、絕緣層、發(fā)光層組成,為了保證大面積膜層的均勻性,提高生產(chǎn)率和降低成本,幾乎所有類型的平板顯示器件都會(huì)使用大量的
2024-07-19 面議/套? ? ? 非常高純鋁濺射靶基材為非常高純鋁靶材的金屬原材料。電子濺射靶材可以分為半導(dǎo)體靶材、鍍膜玻璃靶材、太陽(yáng)能光伏靶材、裝飾鍍靶材等。材質(zhì):Si、Al規(guī)格:可以按照用戶需要定制。汽車玻璃)工業(yè)等行業(yè)。在半導(dǎo)體集成電路制造過(guò)程中,以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線:在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中,各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展,有的已經(jīng)用于電腦及計(jì)算機(jī)的顯示器制造;在信息存
2024-07-19 面議/套? ? ?從目前的發(fā)展趨勢(shì)來(lái)看,未來(lái)HIT和薄膜電池增長(zhǎng)潛力很大。目前大部分國(guó)家薄膜電池量保持10%以上的增速,另一方面,國(guó)內(nèi)對(duì)于HIT電池的投資熱情高漲,HIT也大概率會(huì)保持高速增長(zhǎng),產(chǎn)能有望從目前的2GW增長(zhǎng)至2024年的100GW以上。合金靶材:鉻鋁合金靶,金鈀合金,金錫合金,金鍺鎳合金,鋁釩合金靶,鋁鉻釔合金靶,鋁硅合金靶,鋁硅銅合金靶,鋁鐵合金靶,鎂鉻合金靶,鉬鎳合金靶,鎳鉑合金靶,鎳釩
2024-07-19 面議/套根據(jù)中國(guó)濺射靶材行業(yè)市場(chǎng)數(shù)據(jù)顯示:靶材在半導(dǎo)體材料中占比約為2.5-3%。上海和廣州是全國(guó)經(jīng)濟(jì)中心城市,是國(guó)際的港口城市,也是長(zhǎng)三角的****城市。這里人才匯集、資源匯聚,對(duì)于長(zhǎng)三角乃至于全國(guó)的發(fā)展都有重要的帶領(lǐng)和示范作用。由于半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)與晶圓產(chǎn)量存在直接關(guān)系,以中國(guó)大陸晶圓廠產(chǎn)能占大部分國(guó)家比例為15%計(jì)算。2018年中國(guó)半導(dǎo)體濺射靶材市場(chǎng)約1.2億美元,隨著晶圓廠產(chǎn)能向中國(guó)轉(zhuǎn)移,半導(dǎo)體
2024-07-19 面議/套平面石墨靶,20 世紀(jì)90 年代以來(lái)靶材已蓬勃發(fā)展成為一個(gè)專業(yè)化產(chǎn)業(yè),中國(guó)及亞太地區(qū)靶材的需求占有世界70%以上的市場(chǎng)份額。大量不同的沉積技術(shù)用來(lái)沉積生長(zhǎng)各種薄膜 ,而靶材是制作薄膜的關(guān)鍵,品質(zhì)的好壞對(duì)薄膜的意義重大。目前高端品質(zhì)靶材主要由:日本、德國(guó)和美國(guó)生產(chǎn),我國(guó)靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚,在產(chǎn)品質(zhì)量與精細(xì)標(biāo)準(zhǔn)上與國(guó)外有不少的差距,國(guó)內(nèi)也有許多大學(xué)及研究機(jī)構(gòu)對(duì)靶材積極投入了大量鉆研與開(kāi)發(fā),經(jīng)過(guò)這幾年的發(fā)
2024-07-19 0關(guān)于本網(wǎng)| 大事記|玻璃展會(huì)|熱點(diǎn)搜索|玻璃人才|玻璃名錄|站點(diǎn)地圖|活動(dòng)推廣|隱私聲明|版權(quán)聲明|玻璃供應(yīng)|聯(lián)系我們|English
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