銅靶Cu,石墨靶C,硅靶Si,鐵靶

ITO靶、AZO靶，氧化鎂靶、氧化鐵靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、硫化鎘靶，硫化鉬靶，二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶，五氧化二鉭靶，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、氟化鎂靶，硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳

2024-07-31 面議/套

高純AZO靶材,98:2AZO靶材,AZ

什么是磁控濺射鍍膜靶材？磁控濺射鍍膜是一種新型的物相鍍膜方式,就是用電子系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上，使其被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。濺射靶材有金屬，合金，陶瓷，硼化物等。濺射靶材主要應用于電子及信息產業(yè)。光學器件應用范圍非常廣泛，主要包括智能手機、車載鏡頭、安防監(jiān)控設備、數(shù)碼相機、光碟機、投影機等，元器件及光學鏡頭。 ?

2024-07-31 面議/套

高純鉻靶,鉻管靶,鉻靶材源頭

? ? 鎳鉑合金濺射靶材在半導體制造中的應用及發(fā)展趨勢。金屬硅化物具有不錯的高溫舒緩反應性以及良好的導電、導熱性，已廣泛應用于半導體制造中作為優(yōu)良的接觸材料。隨著金屬硅化物的不斷發(fā)展，主要的硅化物已從鈦、鈷硅化物逐步發(fā)展到低電阻、低耗硅量以及低形成溫度的鎳硅化物。鎳鉑硅化物薄膜在半導體制造中的應用,廣泛應用于開關電源、變頻器、驅動器等電路中。隨著肖特基二極管工藝不斷發(fā)展，金屬硅化物-硅接觸已取代了

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黃金靶材,玫瑰金靶材,氮化鈦

? ? 除了光照及電應力會影響a-IGZOTFT的穩(wěn)定性外，其對空氣中的氧氣和水蒸氣也較為敏感，長處于潮濕空氣中會使其性能發(fā)生明顯下降。同時，IGZO背溝道表面在薄膜制備過程或者環(huán)境中容易受到，也是其穩(wěn)定性不高的原因之一。IGZOTFT電學特性在氫氧環(huán)境中也會發(fā)生衰退。2016年大部分國家高純?yōu)R射靶材市場規(guī)模約為113.6億美元，預計到2019年，大部分國家高純?yōu)R射靶材市場規(guī)模將超過163億美元，

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各種平面靶材,金屬靶材源頭

? ? ? 靶材可分為：長靶、方靶、圓靶。按應用領域不同可分為：半導體芯片靶材、平面顯示器靶材、太陽能電池靶材、信息存儲靶材、工具改性靶材、電子器件靶材、其他靶材。濺射：即集成電路制造過程中要反復用到的工藝；靶材：就是濺射工藝中必不可少的重要原材料。那么，不同應用領域，對材料的選擇及性能要求也有一定差異，Low-E玻璃具有可以阻止空氣由熱向冷傳遞的特性,其指標有：輻射率、可見光透射比、遮陽系數(shù)、傳

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高純氧化鈮靶材 Nb2O5靶材

? ? ? 氧化銦中僅添加了氧化錫的ITO，由于燒結時蒸氣壓高，采用利用蒸發(fā)和凝縮來燒結的機構，難以產生收縮，燒結體致密化困難。鍍膜時，若片材的密度過低，則在照射電子束時材料從表面蒸發(fā)出來并同時引起靶材的急劇燒結，存在由局部片材收縮所引起的靶材破損問題。另一方面，若靶材密度過高，則在照射電子束時靶材的表面和內部產生溫度差，并因熱膨脹的差異而發(fā)生靶材破損（由熱沖擊引起的破損）的問題。若發(fā)生靶材破損，

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AZO靶材價格 AZO鍍膜靶材 AZ

? ? ? 靶材，特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的物理-氣相沉積工藝（PVD）、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。所謂濺射，是制備薄膜材料的主要技術，也是PVD的一種。它通過在PVD設備中用離子對目標物進行轟擊，使得靶材中的金屬原子以一定能量逸出，從而在晶圓表面沉積，濺鍍形成金屬薄膜，其中被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。 ? ? ? 薄膜太陽能電池比傳統(tǒng)的晶體硅太

2024-07-31 面議/套

硅鋁鋯靶材,硅鋁靶材,高純硅

? ? ? 鉬靶材主要用于平面顯示行業(yè)，屬于鉬金屬制品生產鏈頂端產品，技術含量高、生產難度大。UVTM自主研發(fā)、生產出具有完全知識產權的4.5代、5.0代、5.5代靶材，產品規(guī)格一次一次刷新紀錄。靶中毒的影響因素，靶中毒現(xiàn)象（1）正離子堆積：靶中毒時，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達陰極靶面時由于絕緣層的阻擋，不能直接進入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產生冷場致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進

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鋯靶材用途,鋯靶材鍍色,鋯靶

? ? ? 鍍膜靶材是用物理或化學的方法在靶材表面鍍層透明的電解質膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變靶材表面的反射和透射特性。而鍍膜的方法有真空鍍膜和光學鍍膜，真空鍍膜和光學鍍膜的區(qū)別是什么。在19世紀末，ITO薄膜的研究工作開始真實地發(fā)展了起來，當時是在光電導的材料上獲得很薄的金屬薄膜。而關于透明導電材料的研究進入一個新的時期，則是在第二次世界大戰(zhàn)期間，主要應用于飛機的除冰窗戶玻璃。而在1950年，

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綁定石墨靶材,C靶材,碳靶材,

? ? ? 隨著石墨加工技術的提高，石墨靶材興起，石墨靶材也會被應用在更加廣闊的領域中,在市場中，優(yōu)質石墨靶材主要來源日本、德國、美國，不僅是在靶材行業(yè)，在石墨行業(yè)我們這些國家的差距還是很大的。在靶材行業(yè)中，我們常見到的有金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材、這些在靶材在微電子、顯示器、儲存等行業(yè)有著廣泛的應用。石墨靶材自身具有耐高溫、自潤滑、耐腐蝕、導電性良好等特點，用石墨做靶材，根據行業(yè)的不同選用不同

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