ITO靶材,氧化銦錫靶材,平面I

?目前，異質(zhì)結(jié)還沒有形成規(guī)模，產(chǎn)業(yè)鏈也沒有成熟，還有一些技術(shù)問題需要解決。但晉能認(rèn)為，異質(zhì)結(jié)降本路線圖已經(jīng)非常清晰。一是降低低溫銀漿用量;二是將運(yùn)用在平板顯示中的ITO靶材技術(shù)為光伏行業(yè)所用;三是發(fā)展“國產(chǎn)”制絨添加劑技術(shù)，降低外來進(jìn)口成本;四是按照異質(zhì)結(jié)這一技術(shù)特點(diǎn)來優(yōu)化、設(shè)計(jì)PECVD、磁控濺射設(shè)備。降本這一目標(biāo)實(shí)現(xiàn)以后，異質(zhì)結(jié)成本至少可以和單晶PERC單瓦成本持平，其效率卻比PERC高，再加

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氧化鈦靶材密度,氧化鈦靶材

氧化物陶瓷靶材屬于陶瓷產(chǎn)品，由于對(duì)純度、密度、尺寸、形狀，以及成分、結(jié)構(gòu)、均勻性等都有特殊要求，其制備南都較高。氧化物陶瓷靶材作為重要的關(guān)鍵基礎(chǔ)材料，多年來一直被靶材研究人員關(guān)注。與德國、日本等世界靶材強(qiáng)國相比，我國陶瓷靶材研究相對(duì)落后，但是近年來，隨著全球光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，國內(nèi)大型靶材公司加大投入，取得了很大的成果。 ? ? ? ? 陶瓷靶材結(jié)構(gòu)的發(fā)展鍍膜市場(chǎng)不僅對(duì)各種鍍膜產(chǎn)品尺寸、鍍膜品質(zhì)、生產(chǎn)

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高純鈦靶材，噴涂鈦靶,一體

? ? 鍍膜靶材是用物理或化學(xué)的方法在靶材表面鍍層透明的電解質(zhì)膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變靶材表面的反射和透射特性。而鍍膜的方法有真空鍍膜和光學(xué)鍍膜，真空鍍膜和光學(xué)鍍膜的區(qū)別是什么。在19世紀(jì)末，ITO薄膜的研究工作開始真實(shí)地發(fā)展了起來，當(dāng)時(shí)是在光電導(dǎo)的材料上獲得很薄的金屬薄膜。而關(guān)于透明導(dǎo)電材料的研究進(jìn)入一個(gè)新的時(shí)期，則是在第二次世界大戰(zhàn)期間，主要應(yīng)用于飛機(jī)的除冰窗戶玻璃。而在1950年，第二

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氧化鋅鋁靶材 AZO靶材

產(chǎn)品用途（Application）用于光伏TCO玻璃，建筑汽車玻璃膜系。 ? 產(chǎn)品化學(xué)成分和物理性能：(Physical and chemical properties of the product）化學(xué)式( Chemical Composition) ： ZnO.Al2O3(98:2wt%)成型工藝（Molding process）：熱壓燒結(jié)(HP)密度(Density ):>5.4g/cm3（

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氧化鈮旋轉(zhuǎn)靶材,氧化鈮靶材

芯片制造對(duì)濺射靶材金屬純度的要求較高，通常要達(dá)到99.9995%以上，而平板顯示器、太陽能電池分別要求達(dá)到99.999%、99.995%以上即可。除了純度之外，芯片對(duì)濺射靶材內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等也設(shè)定了極其苛刻的標(biāo)準(zhǔn)，需要掌握生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵技術(shù)，并經(jīng)過長(zhǎng)期實(shí)踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品。半導(dǎo)體制造流程當(dāng)中，濺射靶材無疑是重中之重的原材料，其質(zhì)量和純度對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的后續(xù)生產(chǎn)質(zhì)量起著關(guān)鍵性作用。非常高純

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旋轉(zhuǎn)銀靶材,平面銀靶,銀管靶

光伏薄膜電池用靶材主純度要求一般在99.99%（4N）以上，光伏領(lǐng)域?qū)Π胁牡氖褂弥饕�是薄膜電池和HIT光伏電池。太陽能電池主要包括晶硅電池和薄膜電池，環(huán)節(jié)以及HIT（異質(zhì)結(jié)）電池的導(dǎo)體層，異質(zhì)結(jié)電池可實(shí)現(xiàn)25%的轉(zhuǎn)換效率。傳統(tǒng)的太陽能電池用靶材會(huì)用到鋁、銅、鉬、鉻等，主要應(yīng)用于薄膜太陽能電池。太陽能靶材技術(shù)要求高、應(yīng)用范圍大。信息存儲(chǔ)靶材的原材料有鉻基、鈷基合金等，用于光驅(qū)、光盤、機(jī)械硬盤、磁帶等

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ito靶材出口,ito靶材供應(yīng)商,

國內(nèi)靶材公司的發(fā)展趨勢(shì)如何？目前全球高端靶材市場(chǎng)主要分布于韓國、寶島、中國、日本，主要供應(yīng)商在日本，韓國。中國市場(chǎng)目前年消耗ITO靶材約300噸，但處于快速增長(zhǎng)之中，多條高世代液晶面板線（京東方，華星光電，惠科HKC，天馬，熊貓電子，三星蘇州，LG廣州等）正在建設(shè)或規(guī)劃建設(shè)中。然而中國ITO靶材被國外供應(yīng)商壟斷，國產(chǎn)靶材市場(chǎng)份額僅約5%。ITO靶材生產(chǎn)的主要原料為稀有金屬銦，中國是世界上較好的銦金

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光伏靶材,光伏ito靶材,9901i

? ? ? 芯片對(duì)濺射靶材的要求非常之高要求靶材純度很高一般在5N（99.999%）以上。5N就是表示有5個(gè)9，4N表示有4個(gè)9即99.99%，哪個(gè)純度更高一看就明白了。在提純領(lǐng)域，小數(shù)點(diǎn)后面每多一個(gè)9，難度是呈指數(shù)級(jí)別的增加，技術(shù)門檻也就更高。應(yīng)用與市場(chǎng)格局到這里，知道了高純?yōu)R射靶材，知道了金屬靶材的鋁、鈦、銅、鉭那怎么判斷哪個(gè)金屬應(yīng)用幾寸晶圓上哪個(gè)用在先進(jìn)制造工藝上？半導(dǎo)體晶圓制造中200mm

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旋轉(zhuǎn)硅鋁鋯靶材,硅鋯靶材,硅

旋轉(zhuǎn)硅鋁靶 Rotatable SiAl Alloy target，應(yīng)用：用于制作SiO2膜、Si3N4膜，主要用于光學(xué)玻璃AR膜系，Low-E玻璃膜系,半導(dǎo)體電子, TFT, 平面顯示. 觸摸屏玻璃 產(chǎn)品化學(xué)成分和物理性能：化學(xué)式：SiAl 成分： SiAl（90：10wt%±2%、25:75wt%）成型工藝：噴涂密度: >2.2g/cm3（>94%）純度: > 99.9%較大雜質(zhì)含量 （單位:

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高純硅靶材,旋轉(zhuǎn)硅靶材,平面

真空鍍膜機(jī)的發(fā)展相當(dāng)迅速，隨著生產(chǎn)率的提高，生產(chǎn)費(fèi)用大大降低，已經(jīng)為真空鍍膜產(chǎn)品的普遍使用鋪平了道路。以卷繞式真空鍍膜機(jī)為例，剛開發(fā)時(shí)可鍍的薄膜基材寬度是150mm，目前已達(dá)2253mm。基材卷筒的卷徑是1000mm，卷繞速度750m/min。自動(dòng)裝卸的半連續(xù)卷繞式真空鍍膜機(jī)鍍膜時(shí)間占整個(gè)周期的75%，輔助操作時(shí)間只占25%。隨著計(jì)測(cè)技術(shù)、控制技術(shù)的進(jìn)步和電子計(jì)算機(jī)的應(yīng)用，卷繞式真空鍍膜機(jī)正向著高

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