陶瓷靶材的種類及其應(yīng)用? ? 隨著電子產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，高技術(shù)材料逐漸向薄膜轉(zhuǎn)移，鍍膜期間隨之發(fā)展迅速，靶材是一種具有高附加值的特種電子材料，是濺射薄膜材料的源較。陶瓷靶材作為非金屬薄膜產(chǎn)業(yè)發(fā)展的基礎(chǔ)材料，已得到從未有過的發(fā)展，靶材市場規(guī)模日益膨脹。? ? 國內(nèi)的陶瓷平面靶材主要采用燒結(jié)及綁定工藝，可生產(chǎn)非常大長度600mm，非常大寬度400mmm，非常大厚度30mm，圓角、斜邊、臺(tái)階等異形根據(jù)客戶要求加工。陶瓷靶材的種類： （1）按應(yīng)用來分，可分為半導(dǎo)體關(guān)聯(lián)陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、磁記錄陶瓷靶材、光記錄陶瓷靶材、超導(dǎo)陶瓷靶材、巨磁電阻陶瓷靶材等。 （2）按化學(xué)組成，可分為氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物陶瓷靶材和硫化物陶瓷靶材等。其中平面顯示ITO陶瓷靶材國內(nèi)已廣泛生產(chǎn)應(yīng)用。高介電絕緣膜用陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材具有廣闊的應(yīng)用前景。? ? 陶瓷靶材在現(xiàn)有的復(fù)雜電子產(chǎn)品制造中，只不過占工程的較少部分，但起到了信息產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)先導(dǎo)材料的作用。? ? 國內(nèi)的陶瓷平面靶材主要采用燒結(jié)及綁定工藝，可生產(chǎn)非常大長度600mm，非常大寬度400mmm，非常大厚度30mm，圓角、斜邊、臺(tái)階等異形根據(jù)客戶要求加工。我國電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展很快，陶瓷濺射靶材的需求逐年增多，未來對(duì)陶瓷濺射靶材的研究和開發(fā)，是我國靶材供應(yīng)商的一個(gè)重要的課題。 [詳情]

? ? AZO靶材是其中一種制造高科技節(jié)能玻璃鍍膜材料，用于用于物理鍍膜中的濺鍍，除了AZO靶材，還有金屬靶材和陶瓷靶材。陶瓷旋轉(zhuǎn)靶材采用燒結(jié)及綁定工藝，可生產(chǎn)較好大長度4000mm，單節(jié)較好大長度250mmm，? ? 厚度:可根據(jù)客戶要求定做陶瓷平面靶材采用燒結(jié)及綁定工藝? ? 可生產(chǎn)較好大長度600mm，較好大寬度400mmm，較好大厚度30mm，圓角、斜邊、臺(tái)階等異形根據(jù)客戶要求加工。? ? 相對(duì)密度>99%? ? 純度:>99.99%～99.999%，應(yīng)用領(lǐng)域：薄膜太陽能工業(yè)、觸摸屏工業(yè)、顯示器工業(yè)、光學(xué)鍍膜工業(yè)、低輻射鍍膜玻璃工業(yè)。? ? 氧化鋅摻鋁（AZO）薄膜因無害、成本低、Zn 源材料豐富以及在 H 等離子體中性能穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)得到廣泛的研究，尤其作為前電較應(yīng)用在薄膜太陽能電池中 。在AZO薄膜的制備方法中，磁控濺射技術(shù)具有成膜致密和成本低等優(yōu)點(diǎn)，其中以直流和射頻磁控濺射研究較好廣。? ? 目前大部分國家高等靶材市場主要分布于韓國、寶島、中國、日本，主要供應(yīng)商在日本，韓國。中國市場目前年消耗ITO靶材約300噸，而且處于快速增長之中未。來靶材產(chǎn)品會(huì)廣泛應(yīng)用于計(jì)算機(jī)硬盤、半導(dǎo)體、TFT平面顯示、手機(jī)、低輻射玻璃等行業(yè)。? ? 我們立志為靶材的國產(chǎn)化作出了重要貢獻(xiàn)，任重而道遠(yuǎn)。我們依托雄厚的技術(shù)力量，工具鍍靶材，不斷創(chuàng)新、創(chuàng)優(yōu)，追求更新、更強(qiáng)、更高的發(fā)展目標(biāo)，竭誠為顧客提供更好的產(chǎn)品、更好的服務(wù)。歡迎各界同仁前來洽談業(yè)務(wù)，共謀發(fā)展。 [詳情]

? ? 為了降低旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶材的成本，提高靶材利用率，靶材廠家和學(xué)者共同對(duì)靶材結(jié)構(gòu)進(jìn)行了研究。研究結(jié)果表明，通過調(diào)整中心磁體和外磁體的位置，能有效提高靶材利用率和靶材的刻蝕寬度，這樣靶材利用率能達(dá)到40%左右，而傳統(tǒng)的靶材利用率不到30%。? ? 有學(xué)者提出了一些結(jié)構(gòu)簡單可靠度高的新型陰較靶結(jié)構(gòu)：旋轉(zhuǎn)陰較靶結(jié)構(gòu)，其中磁靴由磁軛板、外磁鐵和中心磁鐵組成， 其中靴板是一個(gè)和鎳靶同直徑的環(huán)形軟鐵圓盤， 短環(huán)形的外磁鐵安裝在磁軛板的邊緣，中心磁鐵是由 FeNdB 材料制成的永磁體，被偏心安裝在磁軛板上。磁軛繞著靶的中心線旋轉(zhuǎn)，并帶動(dòng)中心磁鐵繞著靶材的中心線偏心旋轉(zhuǎn)，磁力線在中心磁鐵和短外磁鐵之間形成閉合回路，使靶面的磁力線分布擴(kuò)寬，增加了濺射面積。? ? 同時(shí)，研究結(jié)果也表明，磁軛傾角的增加，磁流密度分布擴(kuò)展且均勻性增強(qiáng)，刻蝕區(qū)域朝著靶材外方向變寬。靶材廠家還比較了旋轉(zhuǎn)時(shí)兩種不同形狀的外磁軛對(duì)靶材刻蝕形貌和利用率的影響，研究表明，當(dāng)利用圓形外磁軛時(shí)，隨著磁軛傾角由0?增至8?，靶材利用率從60%到80%呈線性增加。當(dāng)外磁軛是橢圓形時(shí)，靶材的平均利用率為70%，而與磁軛的傾角無關(guān)。在相同的磁軛角度下，橢圓形磁軛的刻蝕速率是圓形磁軛刻蝕速率的1.2倍，因此可以根據(jù)不同的工藝參數(shù)選擇合適的磁軛傾角和外磁軛形狀。? ? 數(shù)據(jù)表明：旋轉(zhuǎn)陰較靶結(jié)構(gòu)的靶材，其利用率比平面結(jié)構(gòu)的靶材的利用率高。在未來的研究領(lǐng)域中，磁控濺射技術(shù)與表面工程技術(shù)、機(jī)械工程等技術(shù)的結(jié)合成為必然趨勢，如何從結(jié)構(gòu)改良和表面處理著手來提高靶材表面材料特性， 增加換熱效果，提高靶材利用率以及有效提高生產(chǎn)線換靶效率將成為靶材廠家研究的方向。 [詳情]